H94-31型4″双面光刻机
主要用途：     主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路的研制和生产。 工作方式：     本机采用版—版对准双面同时曝光方式，亦可用于单面曝光。 主要构成：     主要由高精度对准工作台、Z轴升降机构、双视场CCD显微显示系统)、二台多面反射式曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式真空泵、防震工作台等组成。
主要功能特点 1.适用范围广   适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光。 2.结构先进     Z轴采用滚珠直进式导轨和可实现硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构，真空吸版，防粘片机构。 3.操作简便     X、Y移动、Q转、Z轴升降采用手动方式；吸版、反吹采用按钮方式，操作、调试、维护、修理都非常简便。 4.可靠性高     采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的零件加工，使本机具有非常高的可靠性。
主要技术指标 ◆基片尺寸：4″、3″、2″，基片厚度≤5mm ◆版架尺寸： □5″×5″、 □4″×4″、□3″×3″ ◆对准范围：X、Y粗调±5mm、Q向±5° ◆对准精度：≤±2μm ◆分离距离：≥10mm ◆曝光范围：≥φ115mm ◆曝光分辩率：2μm ◆能实现硬接触曝光、软接触曝光和微力接触 曝光 ◆多面反射曝光头，光的不均匀性：≤±6%，使用200瓦直流汞灯，风冷。 ◆曝光时间：0-999.9秒，上、下曝光头分别可调 ◆光强：≥4mw/cm2 ◆采用双视场CCD显微显示系统，放大倍数60×-400×；双物镜距离25-100mm ◆动力：压缩空气3.5kg、电压AC220V/50Hz、功率1KW。 ◆外形尺寸：870×680×1450mm （L×W×H） ◆重量：170kg.	CCD显微系统 X、Y、Q对准工作台 Z轴升降机构